Zdalne podgrzewanie substratów
• Moc lasera 50…1000 W, 808 lub
980 nm
• Wyprowadzenie swobodne lub
światłowodem
• Optyka zmiennoogniskowa z
regulacją powiększenia.
Rozmiary plamki od 2 do 50
mm
• Chłodzony wodą tor
optyczny
• Możliwość użycia w
manipulatorach
próżniowych
• Temperatury grzania
do 1200 deg C
Lasery i optyka do pisania siatek Bragga
• Lasery ekscymerowe 248 / 193 nm do procesów z maską fazową
• Lasery ekscymerowe 248 / 193 nm z wąską linią do inteferometrii
• Lasery femtosekundowe do procesu punkt po punkcie
• Układy prowadzenia wiązki i kontroli ruchu
Laserowe urządzenie do zdejmowania izolacji (emalii) z drutów
nawojowych
• laser
• skaner 2D
• układ wizyjny do kalibracji
pola obróbki
• Jednolaserowy proces dla
drutu < 1 mm
• dwulaserowy proces dla
drutów > 1 mm
• może pracować z
robotem lub
manipulatorem
• bezawaryjna praca w
trybie 24/7